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3月23日，龙图光罩发布预案，拟向不超越35名特定目标发行股票募资不超14.6亿元，用于“40nm~28nm半导体掩模版出产线建设项目”，这是其科创板上市后初次再融资。当时40nm—28nm半导体掩模版商场被外企独占，项目达产后将构成年产15000片产能，添补国内高端商场空白，项目总出资19.54亿元。
3月23日，半导体掩模版企业龙图光罩（SH688721，股价38.80元，市值51.80亿元）发布《2026年度向特定目标发行A股股票预案》，拟向不超越35名（含）特定目标发行股票，征集资金总额不超越14.6亿元，悉数用于“40nm—28nm半导体掩模版出产线建设项目”。
这是龙图光罩自2024年8月在科创板上市后的初次再融资，旨在打破国内高端掩模版技能瓶颈，添补国内高端光掩模版商场空白。
依据预案，龙图光罩这次发行采纳竞价发行方法，定价基准日为发行期首日，发行价格不低于定价基准日前20个交易日公司股票交易均价的80%。发行目标为不超越35名契合我国证监会规则条件的特定出资者，包含证券出资基金办理公司、证券公司、信托公司、财政公司、财物办理公司、保险组织出资的人、合格境外组织出资的人等。这次发行拟征集资金总额不超越14.6亿元。
这次发行股票数量不超越本次发行前公司总股本的30%，即不超越4005万股（含本数）。征集资金悉数用于“40nm—28nm半导体掩模版出产线建设项目”。发行目标认购的股份自发行完毕之日起6个月内不得转让。
本次发行不会导致公司操控权产生显着的改变。到预案公告日，公司一起实践操控人为柯汉奇、叶小龙、张道谷，算计操控公司56.99%股权。以发行上限核算，发行后三人算计操控份额将降至43.84%，仍为控股股东。
半导体掩模版是半导体制作中不可或缺的要害资料，用于将电路图形经过光刻工艺转移到硅晶圆上。掩模版的技能水平直接决议了芯片制作的精度和功能。依照基板资料不同，掩模版可分为石英掩模版与苏打掩模版，其间石英掩模版用于高精度场景。
当时40nm—28nm半导体掩模版呈现高度集中的独占格式，日本Toppan公司、美国Photronics公司、日本DNP公司分食了商场份额。
龙图光罩作为国内稀缺的独立第三方半导体掩模版厂商，自2024年8月科创板上市以来继续不断的添加投入进行技能攻关和产品迭代，半导体掩模版工艺才能从130nm逐渐提高至65nm，并已完结40nm工艺节点的出产设备布局。
可是，40nm—28nm制程是当时国内掩模版企业技能才能的中心分界线。跟着制程提高，掩模版套刻层数添加，技能难度呈指数级增加。例如，台积电130nm制程节点需要约30层掩模版，而14nm/10nm则需要约60层。7nm SoC所需掩模版本钱约为1500万美元，占全体本钱的2.5%，远高于16nm/14nm节点的500万美元本钱。
本次募投项目总出资约19.54亿元，拟运用征集资金14.6亿元，缺乏部分由公司自有或自筹资金处理。项目施行主体为龙图光罩全资子公司珠海市龙图光罩科技有限公司，项目选址坐落珠海市高新区。需置办的中心设备包含电子束光刻机、干法蚀刻机、无酸整理洗刷设备等。
项目建设周期为36个月，达产后将构成年产15000片半导体掩模版的产能。
从商场空间来看，2025年全球掩模版商场规划估计到达60.79亿美元，同比增加7%。我国掩模版商场规划从2017年的9.12亿美元增至2022年的15.56亿美元，年均复合增加率11.3%。跟着AI、新能源轿车、智能驾驭等新式范畴对40nm—28nm芯片需求激增，高端掩模版商场迎来宽广开展空间。
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